三星公布 2nm 工艺细节,良品率暂不足 60%

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11月,三星电子首次公布 2nm 工艺量产进展及技术指标。

相较 3nm 制程,该新工艺性能提升 5%、能效优化 8%,芯片面积缩减 5%。

尽管性能提升幅度低于业界预期,但标志着其在 GAA 技术路线上的重要推进

不过当前该工艺良品率仍不足 60%,将影响量产规模与成本控制。


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